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電鍍設備生產線在制造工藝過程中有哪些要求?使用的電源有哪些特點?接下來我們一起來看看以下內容加深了解。
電鍍是指在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,以被鍍基體金屬為陰極,通過電解作用,使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來,形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬,具有新的特征。根據鍍層的功能分為防護性鍍層,裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。
1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應有良好的結合力。
2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各項指標,如光亮度、硬度、導電性等。
5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。
6. 環境溫度為-10℃~60℃。
7. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8. 水處理設備最大工作噪聲應不大于80dB(A)。
9. 相對濕度(RH)應不大于95%。
10. 原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。
電鍍時的表面狀況和加工要求,選擇其中適當的幾個步驟,對零件表面進行必要的修整加工,使零件具有平整光潔的表面,這是能否獲得優質鍍層的重要環節。
主電路主要包括主變壓器、功率整流器件和一些檢測、保護裝置等。電鍍電源中的主變壓器是將交流電源電壓降低為電鍍工藝所需要的電壓值。晶閘管整流器中使用的是工頻(50Hz)變壓器,高頻開關電源中使用的是高頻(10~50kHz)變壓器。檢測裝置包括電壓表、電流互感器等。保護裝置主要是用于功率整流器件的過流保護。
控制電路主要包括晶閘管或IGBT等的觸發控制電路,電源的軟啟動電路,過流、過壓保護電路,電源缺相保護電路等。
開關電源由于采用了高頻變壓器,轉換效率大大提高,正常情況下較可控硅設備提高效率10%以上,負載率達70%以下時,較可控硅設備提高效率30%以上。
由于系統反應速度快(微秒級),對于網電及負載變化具有極強的適應性,輸出精度可優于1%。開關電源的工作效率高、所以控制精度高,有利于提高產品質量。
由于工作頻率高,其輸出波形調整相對處理成本較低,可以較方便的按照用戶工藝要求改變輸出波形。這樣對于工作現場提高工效,改善加工產品質量有較強作用。
體積與重量為可控硅電鍍電源的1/5-1/10,便于規劃、擴建、移動、維護和安裝。
以上就是電鍍設備在制造工藝過程中有哪些要求的介紹,如果想要了解更多關于電鍍設備的信息,歡迎聯系我們。
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